1 . Dowsett M.G., Cooke G.A., Elliner D.I., Ormsby T.I. and Murrell A.//SIMS XI Proceedings, New York: Willey, 1998. P. 285-288.
2 . Patel S.B., Sears A., and Maul J.M.// Proc. of the XII Int.Conf. on Ion Implantation Technology, Kyoto, Japan, June 1998. P. 955-958
3 . Zhang S., Avan der Berg J.,.Armour D. G, and Whelan S.// Proc. of the XIII Int. Conf. on Ion Implantation Technology, Alpbach, Austria, September, 2000. P. 119-122
4 . Pustovit A.N., Vyatkin A.F.// SIMS XI Proceedings, New York: Willey. 1998. P. 281-284
5 . Korobtsov V.V.,. Lifshits V.G,. Zotov A.V.// Surface Science, 1988. V. 195, P.466-474
6 . Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И. Физические основы электронной и ионной технологии. М.: Высшая школа, 1984. 320с.
|
