СВЕТОИЗЛУЧАЮЩИЕ ИОННО-СИНТЕЗИРОВАННЫЕ СТРУКТУРЫ НА ОСНОВЕ НАНОКРИСТАЛЛОВ КРЕМНИЯ В ОКСИДНЫХ МАТРИЦАХ |
5 | |
2010 |
научная статья | 537.9: 539.534.9: 535.37 | ||
264-270 | нанокристаллы кремния, оксид кремния, оксид алюминия, оксид циркония, ионная имплантация, фотолюминесценция, структура |
Исследованы люминесцентные свойства, структура и фазовый состав слоев SiO2, Al2O3 и ZrO2, подвергнутых в единых условиях ионной имплантации Si |
1 . Pavesi L., Guillot G. Optical Interconnects. The Silicon Approach. B.-Heidelberg: Springer-Verlag, 2006. 389 p. 2 . Fauchet P.M. // Materials Today. 2005. V. 8. № 1. P. 26-33. 3 . Janda P., Valenta J., Ostatnicky T. et al. // J. Lumin. 2006. V. 121. P. 267-273. 4 . Kanemitsu Y., Shimizu N., Komoda T. et al. // Phys. Rev. B. 1996. V. 54. № 20. P. 14329-14332. 5 . Тетельбаум Д.И., Карпович И.А., Степихова М.В. и др. // Поверхность. 1998. № 5. С. 31-33. 6 . Качурин Г.А., Лейер А.Ф., Журавлев К.С. и др. // ФТП. 1998. Т. 32. № 11. С. 1371-1377. 7 . Garrido B., Lopez M., Perez-Rodr?guez A. et al. // Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B. 2004. V. 216. P. 213-221. 8 . Тетельбаум Д.И., Горшков О.Н., Касаткин А.П. и др. // ФТТ. 2005. Т. 47. № 1. С. 17-21. 9 . Steimle R.F., Muralidhar R., Rao R. et al. // Microelectronics Reliability. 2007. V. 47. P. 585. 10 . Baron T., Fernandes A., Damlencourt J.F. et al. // Appl. Phys. Lett. 2003. V. 82. № 23. P. 4151-4153. 11 . Гриценко В.А., Насыров К.А., Гриценко Д.В. и др. // ФТП. 2005. Т. 39. С. 748. 12 . Green M.A. Third generation photovoltaics // B.-Heidelberg: Springer, 2006. 160 p. 13 . White C.W., Budai J.D., Withrow S.P. et al. // Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1994. V. 316. P. 487. 14 . Park C.J., Kwon Y.H., Lee Y.H. et al. // Appl. Phys. Lett. 2004. V. 84. № 14. P. 2667-2669. 15 . Yerci S., Serincan U., Dogan I. et al. // J. Appl. Phys. 2006. V. 100. P. 074301. 16 . Yerci S., Yildiz I., Kulakci M. et al. // J. Appl. Phys. 2007. V. 102. P. 024309. 17 . Mikhaylov A.N., Tetelbaum D.I., Gorshkov O.N. et al. // Vacuum. 2005. V. 78. № 2-4. P. 519-524. 18 . Tetelbaum D.I., Gorshkov O.N., Ershov A.V. et al. // Thin Solid Films. 2006. V. 515. № 1-2. С. 333-337. 19 . Тетельбаум Д.И., Михайлов А.Н., Горшков О.Н. и др. // Нанотехника. 2006. № 3. С. 36-52. 20 . Тетельбаум Д.И., Михайлов А.Н., Белов А.И. и др. // ФТТ. 2009. Т. 51. № 2. С. 385-392. 21 . Klangsin J., Martya O., Mungu?a J. et al. // Phys. Lett. A. 2008. V. 372. P. 1508-1511. 22 . Hubbard K.J., Schlom D.G. // J. Mat. Res. 1996. V. 11. № 11. P. 2757-2776. 23 . Fulton C.C., Cook T.E., Lucovsky G. et al. // J. Appl. Phys. 2004. V. 96. № 5. P. 2665-2673. 24 . Perkins C.M., Triplett B.B., McIntyre P.C et al. // Appl. Phys. Lett. 2002. V. 81. № 8. P. 1417-1419. 25 . Luo M.-F., Fang P., He M., et al. // Phys. Stat. Sol. A. 2006. V. 203. № 8. P. 2065-2072. 26 . Vitanov P., Harizanova A., Ivanova T., et al. // Mat. Sci. Eng. B. 2009. V. 165. P. 178-181. 27 . Tetelbaum D.I., Mikhaylov A.N., Vasiliev V.K. et al. // Surf. Coat. Technol. 2009. V. 203. P. 2658-2663. 28 . Linards S. // J. Non-Cryst. Sol. 1992. V. 149. № 1-2. P. 77-95. 29 . Sulimov V.B., Sokolov V.O. // J. Non-Cryst. Sol. 1995. V. 191. № 3. P. 260-280. 30 . Bakos T., Rashkeev S.N., Pantelides S.T. // Phys. Rev. B. 2004. V. 70. P. 075203. 31 . Качурин Г.А., Яновская С.Г., Володин В.А. и др. // ФТП. 2002. Т. 36. № 6. С. 685-689. 32 . Yi L.X., Heitmann J., Scholz R. et al. // Appl. Phys. Lett. 2002. V. 81. № 22. P. 661-663. 33 . Inokuma T., Wakayama Y., Muramoto T. et al. // J. Appl. Phys. 1998. V. 83. № 4. P. 2228-2234. 34 . Valakh M.Ya., Yukhimchuk V.A., Bratus' V.Ya. et al. // J. Appl. Phys. 1999. V. 85. № 1. P. 168-173. 35 . Levitcharsky V., Saint-Jacques R.G., Wang Y.Q. et al. // Surf. Coat. Technol. 2007. V. 201. P. 8547-8551. 36 . Evans B.D., Pogatshnik G.J., Chen Y. // Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B. 1994. V. 91. P. 258-262. 37 . Бурдов В.А. // ФТП. 2002. Т. 36. В. 10. С. 1233-1236. 38 . Yu J.J., Boyd I.W. // Thin Solid Films. 2004. V. 453-454. P. 215-218. 39 . Gebwein H., Pfrengle A., Binder J.R. et al. // J. Therm. Anal. Calorimetry. 2008. V. 91. P. 517-523. 40 . Dawson P., Hargreave M.M., Wilkinson G.R. // J. Phys. C: Solid St. Phys. 1971. V. 4. P. 240-256. 41 . Neumayer D.A., Cartier E. // J. Appl. Phys. 2001. V. 90. No 4. P. 1801-1808. 42 . Guha S. // J. Appl. Phys. 1998. V. 84. № 9. P. 5210-5217. 43 . Аморфные полупроводники / Под ред. М. Бродски. М.: Мир, 1982. 419 c. 44 . Быков И.П., Брик А.Б., Глинчук М.Д. и др. // ФТТ. 2008. Т. 50. № 12. С. 2214-2219. 45 . Горшков О.Н., Грачева Т.А., Касаткин А.П. и др. // Высокочистые вещества. 1995. № 2. C. 85-92. |