Вестник Нижегородского университета им. Н.И. Лобачевского. Серия: Социальные науки

16+

Название статьи

ДИАГНОСТИКА ХИМИЧЕСКОГО И ФАЗОВОГО СОСТАВА ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР С НАНОКРИСТАЛЛАМИ КРЕМНИЯ В МАТРИЦЕ ZRO2 МЕТОДАМИ ЭЛЕКТРОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ

Номер журнала	2
Дата выпуска	2013

Тип статьи	научная статья	Коды УДК	537.9 + 539.534.9 + 543.42
Страницы	52-57	Ключевые слова	кремний, нанокристалл, диоксид циркония, электронная спектроскопия, химиче- ский анализ, ионно-лучевой синтез

Авторы

Боряков А.В.Николичев Д.Е.Суродин С.И.Чугров И.А.Семерухин М.А.Белов А.И.Михайлов А.Н.Ершов А.В.Теруков Е.И.Тетельбаум Д.И.

Место работы

Боряков А.В. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Николичев Д.Е. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Суродин С.И. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Чугров И.А. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Семерухин М.А. Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург
Белов А.И. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Михайлов А.Н. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Ершов А.В. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Теруков Е.И. Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург
Тетельбаум Д.И. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского

Аннотация

Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии с применением ионно-плазменного профи- лирования проведен химический анализ пленок диоксида циркония, облученных ионами кремния с дозой 2?1017 см-2 и отожженных при 1100?С в атмосфере азота. Получен профиль распределения фазового со- става по глубине. Обнаружено образование силицидов и силикатов циркония. Экспериментально уста- новлено, что содержание элементного Si в пленке диоксида циркония не превысило 2 ат.%, что на поря- док ниже величины, ожидаемой из дозы имплантации. Снижение концентрации элементного Si в системе связывается с формированием при отжиге диоксида кремния, силикатных и/или силицидных соединений циркония, что объясняет ухудшение люминесцентных свойств системы, наблюдаемых ранее.

Загрузить статью

Библиографический список

1 . Kanemitsu Y., Shimizu N., Komoda T., et al. // Phys. Rev. B. 1996. V. 54. № 20. P. 14329–14332.
2 . Тетельбаум Д.И., Карпович И.А., Степихова М.В. и др. // Поверхность. 1998. № 5. С. 31–33.
3 . Качурин Г.А., Лейер А.Ф., Журавлев К.С. и др. // ФТП. 1998. Т. 32, № 11. С. 1371–1377.
4 . Garrido В., Lopez M., Perez-Rodriguez A., et al. // Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B. 2004. V. 216. P. 213–221.
5 . Steimle R.F., Muralidhar R., Rao R., et al. // Microelectronics Reliability. 2007. V. 47. P. 585–592.
6 . Baron T., Fernandes A., Damlencourt J.F., et al. // Appl. Phys. Lett. 2003. V. 82, № 23. P. 4151–4153.
7 . Гриценко В.А., Насыров К.А., Гриценко Д.В. и др. // ФТП. 2005. Т. 39, № 6. С. 748–753.
8 . Green M.A. Third generation photovoltaics. B. Heidelberg: Springer, 2006. 160 p.
9 . Guittet M.J., Crocombette J.P., Gautier-Soyer M. // Phys. Rev. B. 2001. V. 63, № 3. P. 125117–1–125117-7
10 . Тетельбаум Д.И., Горшков О.Н., Касаткин А.П. и др. // ФТТ. 2005. Т. 47, № 1. С. 17–21.
11 . Боряков А.В., Николичев Д.Е., Тетельбаум Д.И. и др. // ФТТ. 2012. Т. 54, № 2. С. 370–377.
12 . Dey S.K., Wang C.-G., Tang D., et al. //J. Appl. Phys. 2003. V. 93, № 7. P. 4144–4157.
13 . Niinisto J., Putkonen M., Niinisto L., et al. // J. Appl. Phys. 2004. V. 95, № 1. P. 84–91.
14 . Анализ поверхности методами оже- и рентге- новской фотоэлектронной спектроскопии / Под ред. Д. Бриггса, М.П. Сиха. М.: Мир, 1987. 203 с.
15 . Handbooks of monochromatic XPS spectra. Vo- lume 1. The elements and native oxides / Ed. by B.V. Crist. XPS International Inc., 1999. 658 p.
16 . Handbooks of monochromatic XPS spectra. Vo- lume 2. Commercially pure binary oxides and a few common carbonates and hydroxides / Ed. by B.V. Crist. XPS International LLC, 2005. 970 p.
17 . XPS/AES software [Электронный ресурс]. URL: http://www.xpsdata.com/
18 . Файнер Н.И., Косинова М.Л., Румянцев Ю.М. // Рос. хим. журн. 2001. Т. XLV, № 3. С. 101–108.
19 . Wu X.L., Gu Y., Xiong S.J., et al. // J. Appl. Phys. 2003. V. 94, № 8. P. 5247–5251.
20 . Nakazawa M., Kawase S., Sekiyama H. // J. Appl. Phys. 1989. V. 65, № 10. P. 4014–4018.
21 . NIST Standard Reference Database 20, Version 4.1 / Data comp. and eval. by A.V. Naumkin, A. Kraut- Vass, S.W. Gaarenstroom, C.J. Powell [Электронный ресурс] // NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Da- tabase [сайт]. URL: http://srdata.nist.gov/xps/ (дата обращения: 05.09.2012).
22 . Костюк А.Б., Белов А.И., Жаворонков И.Ю. и др. //Вестник ННГУ. 2010. № 5(2). С. 264–270.