Вестник Нижегородского университета им. Н.И. Лобачевского. Серия: Социальные науки

16+

Название статьи

ВЛИЯНИЕ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ НА ФОРМИРОВАНИЕ НАНОЧАСТИЦ ЗОЛОТА МЕТОДОМ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ В ПЛЁНКАХ СТАБИЛИЗИРОВАННОГО ДИОКСИДА ЦИРКОНИЯ

Номер журнала	1
Дата выпуска	2014

Тип статьи	научная статья	Коды УДК	538.975
Страницы	80-83	Ключевые слова	метод магнетронного распыления, стабилизированный диоксид циркония, ионная имплантация, просвечивающая электронная микроскопия, наноразмерные металлические частицы, коэффициент распыления

Авторы

Коряжкина М.Н.Горшков О.Н.Павлов Д.А.Антонов И.Н.Касаткин А.П.Малехонова Н.В.Шенина М.Е.

Место работы

Коряжкина М.Н. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Горшков О.Н. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Павлов Д.А. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Антонов И.Н. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Касаткин А.П. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Малехонова Н.В. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Шенина М.Е. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского

Аннотация

Методом просвечивающей электронной микроскопии исследованы плёнки стабилизированного диоксида циркония, облучённые многозарядными ионами Au со средней энергией 160 кэВ и дозой 4·10

Загрузить статью

Библиографический список

1 . Mattei G., Mazzoldi P., Bernas H. // Topics Appl. Physics. 2010. V. 116. P. 287-316.
2 . Meldrum A. et al. // Topics Appl. Physics. 2010. V. 116. P. 255-285
3 . Zhu, S., Dua C., Fu Y. // Opt. Mat. 2009. Vol. 31. P. 1608-1613.
4 . Кузьминов Ю.С., Ломонова Е.Е., Осико В.В. Тугоплавкие материалы из холодного тигля. М.: Наука, 2004. 369 с.
5 . Горшков О.Н., Грачева Т.А., Касаткин А.П. и др. // Высокочистые вещества. 1995. № 2. C. 85-93.
6 . Горшков О.Н., Грачева Т.А., Касаткин А.П. и др. // Поверхность. 1997. № 1. С. 15-19.
7 . Осташев А.С., Горшков О.Н., Касаткин А.П. и др. // Известия РАН. Серия физическая. 2002. Т. 66. № 9. С. 1374-1376.
8 . Горшков О.Н., Новиков В.А., Касаткин А.П // Неорг. мат. 1999. Т. 35. № 5. С. 604-610.
9 . Gorshkov O.N., Filatov D.O., Kasatkin A.P. et al. //International Workshop on Nondestructive Testing and Computer Simulations in Science and Ingineering / Alexander I. Melker, Editor. Proceedings of SPIE. 1999. Vol. 3687. P. 258-263.
10 . Honda S., Modine F.A., Meldrum A. et аl. // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 77. № 5. P. 711-713.
11 . Sorge K.D., Thompson J.R., Schulthess T.C., et al. // IEEE Transactions on Magnetics. 2001. V. 37 Iss. 4. Р. 2197-2199.
12 . Nakajima H., Itoh K., Kaneko H., Tamaura Y. // J. Phys. Chem. Sol. 2007. V. 68. P. 1946-1950.
13 . Saito Y., Imamura Y., Kitahara A. // Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. B. 2003. V. 206. P. 272-276.
14 . Ho A., Mochiduki K., Saito Y. // Japanese Journal of Applied Physics. 2009. V. 48. P. 035508-1 - 035508-5.
15 . Горшков О.Н., Шенина М.Е., Касаткин А.П., Коряжкина М.Н. // Вестник ННГУ. 2012. № 2. С. 39-43.
16 . Arnold G.W. // J. Appl.Phys. 1975. V. 46. N. 10. P. 4466-4473.
17 . Степанов А.Л., Marques C., Alves E. и др. // ЖТФ. 2006. Т. 76, № 11. С. 79-87.
18 . Ряснянский А.И. и др. // ФТТ. 2009. Т. 51, № 1. С. 52-56.
19 . Горшков О.Н., Шенина М.Е., Касаткин А.П. и др. // Вестник ННГУ. 2010. № 3. С. 37-43.
20 . Горшков О.Н., Павлов Д.А., Трушин В.Н. и др. // Письма в ЖТФ. 2012. Т. 38 (4). С. 60-65.
21 . Sigmund P. Theory of Sputtering. I. Sputtering yield of amorphous and polycrystalline targets // Phys. Rev. 1969. V. 184. P. 383-416.
22 . Kelly R., Lam N.Q. The sputtering of oxides. Part I: a survey of the experimental results // Radiation Effects. 1973. V. 19. P. 39-47.