Вестник Нижегородского университета им. Н.И. Лобачевского. Серия: Социальные науки

16+

Название статьи

ВЛИЯНИЕ МЕЖМОЛЕКУЛЯРНЫХ ВОДОРОДНЫХ СВЯЗЕЙ НА КАЧЕСТВО ФОТОРЕЗИСТНЫХ МАСОК

Номер журнала	4
Дата выпуска	2014

Тип статьи	научная статья	Коды УДК	776.3.665.225+541.14
Страницы	178-182	Ключевые слова	фоторезист, улучшение качества фоторезиста, водородные связи, добавки в фоторезист, фотолитография, разрешающая способность

Авторы

Лебедев В.И.Котомина В.Е.Зеленцов С.В.Леонов Е.C.Сидоренко К.В.

Место работы

Лебедев В.И. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Котомина В.Е. Научно-исследовательский физико-техническийинститут ННГУ им. Н.И. Лобачевского
Зеленцов С.В. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Леонов Е.C. Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского
Сидоренко К.В. Научно-исследовательский физико-техническийинститут ННГУ им. Н.И. Лобачевского

Аннотация

Исследовано влияние добавок, образующих водородные связи со светочувствительным веществом, на качество фоторезистной маски. При введении таких добавок наблюдалось улучшение разрешающей способности фоторезиста. Для изучения физико-химического механизма влияния использованы ИКспектроскопические методы. Получено экспериментальное подтверждение существования взаимосвязи между густотой водородных связей и разрешающей способностью фоторезиста.

Загрузить статью

Библиографический список

1 . Zelentsov S.V., Zelentsova N.V. // In: Photoresists, Encyclopedia of Chemical Processing. New York: Taylor & Francis. 2006. P. 2111-2127.
2 . Котомина В.Е., Зеленцов С.В., Гарусова Ж.В., Кузнецов М.В. Разработка методов спектрометрического контроля позитивных фоторезистов на основе исследования их физико-химических свойств // Изв. АИН им. А.М. Прохорова. Технология материалов и компонентов электронной техники. 2004. Т. 7. С. 174-179.
3 . Ohnishi H., Nakagawa Y., Doi K. Novolak resist solution, positive photoresist composition and preparation method thereof. Pat. US 7060410 (B2). Publ. 13.01.2006.
4 . Koshiba M., Murata M., Harita Y., Yamaoka T. Dissolution inhibition mechanisms for naphthoquinone diazides // Polymer Eng. & Sci. 1989. V. 29. № 14. P. 916-919.
5 . Uenishi K., Kawabe Y., Kobuto T., Slater S.G., Blakeney F.G. Structural effects of DNQ-PAC backbone on resist lithographic properties // SPIE. Proc. 1991. V. 1466. P. 102.
6 . Kajita T., Ota T., Nemoto H., Yumoto Y., Miura T. Novel novolak resins using substituted phenols for high performance positive photoresist (Proceeding Paper) // SPIE Proc. 1991. V. 1466. P. 161-173.
7 . Преч Э., Бюльманн Ф., Аффольтер К. Определение строения органических веществ. Пер. с англ. М.: Бином, 2006.
8 . Flanagin L.W., McAdams C.L., Hinsberg W.D., Sanchez I.C., Willson C.G. Mechanism of Phenolic Polymer Dissolution: Importance of Acid-Base Equilibria // Macromolecules. 1999. V. 32. Р. 5337-5343.
9 . Zelentsov S.V., Zelentsova N.V. // In: Photoresists, Encyclopedia of Chemical Processing. New York: Taylor & Francis. 2006. P. 2111-2127.
10 . Kotomina V.E., Zelencov S.V., Garusova Zh.V., Kuznecov M.V. Razrabotka metodov spektrometricheskogo kontrolya pozitivnyh fotorezistov na osnove issledovaniya ih fiziko-himicheskih svojstv // Izv. AIN im. A.M. Prohorova. Tekhnologiya materialov i komponentov ehlektronnoj tekhniki. 2004. T. 7. S. 174-179.
11 . Ohnishi H., Nakagawa Y., Doi K. Novolak resist solution, positive photoresist composition and preparation method thereof. Pat. US 7060410 (B2). Publ. 13.01.2006.
12 . Koshiba M., Murata M., Harita Y., Yamaoka T. Dissolution inhibition mechanisms for naphthoquinone diazides // Polymer Eng. & Sci. 1989. V. 29. № 14. P. 916-919.
13 . Uenishi K., Kawabe Y., Kobuto T., Slater S.G., Blakeney F.G. Structural effects of DNQ-PAC backbone on resist lithographic properties // SPIE. Proc. 1991. V. 1466. P. 102.
14 . Kajita T., Ota T., Nemoto H., Yumoto Y., Miura T. Novel novolak resins using substituted phenols for high performance positive photoresist (Proceeding Paper) // SPIE Proc. 1991. V. 1466. P. 161-173.
15 . Prech Eh., Byul'mann F., Affol'ter K. Opredelenie stroeniya organicheskih veshchestv. Per. s angl. M.: Binom, 2006.
16 . Flanagin L.W., McAdams C.L., Hinsberg W.D., Sanchez I.C., Willson C.G. Mechanism of Phenolic Polymer Dissolution: Importance of Acid-Base Equilibria // Macromolecules. 1999. V. 32. Р. 5337-5343.