ВКЛАД ДОПОЛНИТЕЛЬНОЙ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ В СТИМУЛИРОВАНИЕ РЕАКЦИИ ИОННОГО СИНТЕЗА ФАЗЫ SI3N4 В СЛОЯХ КРЕМНИЯ, ОБОГАЩЕННЫХ АЗОТОМ |
2 | |
2001 |
научная статья | 539.1.04 | ||
48-55 |
Методами просвечивающей электронной микроскопии, ИК-спектроскопии и регистрации вольтамперных характеристик исследовалось влияние ионно-лучевой обработки аргоном тыльной стороны пластины кремния на состояние слоя SixNy, синтезированного на лицевой стороне. Результат такого воздействия сравнивается с результатами постимплантационных отжигов, а также с результатом ионно-лучевой обработки тыльной стороны пластины неоном и кремнием, проводимой в тех же условиях, что и при бомбардировке аргоном. Показано, что имплантация аргона при ΦAr ~ 1017 см-2 и Т = 5000С является эффективным способом воздействия на синтезированный слой SixNy и может служить альтернативой постимплантационным отжигам. |
![]() |
1 . Павлов П.В., Марков К.А., Карзанов В.В., Демидов Е.С. // Высокочистые вещества. 1995. Вып. 2. С. 56. 2 . Карзанов В.В., Марков К.А., Мастеров Д.В. // Неорг. матер. 1998. Т. 34, в. 9. С. 1138. 3 . Демидов Е.С., Карзанов В.В., Марков К.А., Курицын Д.И. // Вестник Нижегородского университета. Сер. Физика тв. тела. 1998. Вып. 2. С. 105. 4 . Демидов Е.С., Карзанов В.В., Марков К.А. // ФТП. 2000. Т. 34, в. 2. С. 170. 5 . Демидов Е.С., Карзанов В.В., Марков К.А., Лобанов Д.А. и др. // Вестник Нижегородского университета. Сер. Физика тв. тела. 2000. Вып. 1(3). С. 271-280. 6 . Демидов Е.С., Карзанов В.В., Марков К.А., Лобанов Д.А. и др. // ФТП. 2001. Т. 35, в. 1. С. 21. 7 . Карзанов В.В. и др. Матер. Всерос. совещ. "Зондовая микроскопия-99", Н.Новгород, 10-13 марта 1999 г. Н. Новгород: Изд. ИФМ РАН, 1999. С. 185. 8 . Демидов Е.С., Карзанов В.В., Марков К.А., Лобанов Д.А. // Матер. Всерос. совещ. "Зондовая микроскопия-2000", Н. Новгород, 28 февраля-2 марта 2000 г. Н.Новгород: Изд. ИФМ РАН, 2000. С. 166. 9 . Demidov E.S., Karzanov V.V., Markov K.A., Lobanov D.A. // 7th Rus.-Jap. Inter. Symp. "On Interaction of fast charged particles with solids" (program and abstracts), N. Novgorod, October 9-16, 2000. P. 27 10 . Риссел Х., Руге И. Ионная имплантация. М.: Энергия, 1975. 97 с. 1 11 . Данилин А.Б. // Зарубежная электронная техника. 1986. N 4. С. 62. 1 12 . Данилин А.Б. // Электронная промышленность. 1990. N 4. С. 55. 1 13 . Pavlov P.V., Kruze T.A., Tetelbaum D.I. // Phys. stat. sol.(a). 1976. V 36, n. 1. P. 81. 1 |